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用于晶体硅太阳电池生产的PECVD技术进展(3)

北极星电力网技术频道    作者:佚名   2010/12/3 14:54:02   

 关键词:  太阳能 晶体硅 PECVD技术

       

  沉积薄膜的均匀性是一项很重要的指标,目前市场上太阳电池标准订的越来越高,尽管有些色差片的效率很高,也只能按照B级片处理。各种设备的标称均匀性列于表3。

            

  沉积的均匀性与电极和腔室的设计很有关系。管式PECVD系统由于其石墨舟中间镂空,因此利用了硅片作为电极的一部分,因此辉光放电的特性就与硅片表面的特性有了一定的关系,比如硅片表面织构化所生成的金子塔尖端的状态就对等离子体放电产生影响,而目前硅片的电导率的不同也影响到等离子场的均匀性。另外管式PECVD的气流是从石英管一端引入,这样也会造成工艺气体分布的不均匀。

来源:中国新能源
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