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何种应用条件要考虑MOSFET雪崩能量(3)

北极星电力网技术频道    作者:佚名   2010/12/31 11:35:31   

  公式(5)

  对于一些低压的器件,VDS-VDD变得很小,引入的误差会较大,因此限制了此测量电路的在低压器件中的使用。

  目前测量使用的电感,不同的公司有不同的标准,对于低压的MOSFET,大多数公司开始趋向于用0.1mH的电感值。通常发现:如果电感值越大,尽管雪崩的电流值会降低,但最终测量的雪崩能量值会增加,原因在于电感增加,电流上升的速度变慢,这样芯片就有更多的时间散热,因此最后测量的雪崩能量值会增加。这其中存在动态热阻和热容的问题,以后再论述这个问题。

  雪崩的损坏方式

  图3显示了UIS工作条件下,器件雪崩损坏以及器件没有损坏的状态。

  UIS损坏波形

  图3UIS损坏波形

  事实上,器件在UIS工作条件下的雪崩损坏有两种模式:热损坏和寄生三极管导通损坏。热损坏就是功率MOSFET在功率脉冲的作用下,由于功耗增加导致结温升高,结温升高到硅片特性允许的临界值,失效将发生。

  寄生三极管导通损坏:在MOSFET内部,有一个寄生的三极管(见图4),通常三级管的击穿电压通常低于MOSFET的电压。当DS的反向电流开始流过P区后,Rp和Rc产生压降,Rp和Rc的压降等于三极管BJT的VBEon。由于局部单元的不一致,那些弱的单元,由于基级电流IB增加和三级管的放大作用促使局部的三极管BJT导通,从而导致失控发生。此时,栅极的电压不再能够关断MOSFET。

  寄生三极管导通

来源:互联网
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