首页专业论文技术应用政策标准解决方案常用资料经验交流教育培训企业技术专家访谈电力期刊
您现在的位置:北极星电力网 > 技术频道 > 专业论文 > 用于晶体硅太阳电池生产的PECVD技术进展(2)

用于晶体硅太阳电池生产的PECVD技术进展(2)

北极星电力网技术频道    作者:佚名   2010/12/3 14:54:02   

 关键词:  太阳能 晶体硅 PECVD技术

  如果按照PECVD系统所使用的频率范围,又可将其分成以下几类:

  ■0Hz:直流间接法——OTB公司

  ■40KHz:Centrotherm公司管式直接法PECVD和AppliedMaterial公司的磁控溅射系统

  ■250kHz:岛津公司的板式直接法系统

  ■440kHz:Semco公司的板式直接法

  ■460kHz:Centrotherm公司管式直接法

  ■13.6MHz:Semco公司和MVSystem公司的板式直接法系统

  ■2450MHz:Roth&Rau公司的板式间接法系统。

  三各种方法的优缺点比较

  各种方法都有其有缺点:从大的方面讲,直接PECVD法对样品表面有损伤,会增加表面少子的复合,但是也正是由于其对表面的轰击作用,可以去除表面的一些自然氧化层,使得表面的杂质原子得到抑制,另外直接法可以使得氢原子或氢离子更深入地进入到多晶硅晶界中,使得晶界钝化更充分。

  使用不同频率的PECVD系统,也各有一定的优缺点:

  (1)频率越高均匀面积越小,越难于达到大面积均匀性。

  (2)频率越低对硅片表面的损伤越严重。

  (3)频率越低离子进入硅片越深,越有利于多晶硅晶界的钝化。

  我们将不同频率的PECVD方法在电路控制难度的比较列于表1中。

       

  各种不同的技术的沉积特性的比较列于表2

来源:中国新能源
友情链接
北极星工程招聘网北极星电气招聘网北极星火电招聘网北极星风电招聘网北极星水电招聘网北极星环保招聘网北极星光伏招聘网北极星节能招聘网招标信息分类电子资料百年建筑网PLC编程培训

广告直拨:   媒体合作/投稿:陈女士 13693626116

关于北极星 | 广告服务 | 会员服务 | 媒体报道 | 营销方案 | 成功案例 | 招聘服务 | 加入我们 | 网站地图 | 联系我们 | 排行

京ICP证080169号京ICP备09003304号-2京公网安备11010502034458号电子公告服务专项备案

网络文化经营许可证 [2019] 5229-579号广播电视节目制作经营许可证 (京) 字第13229号出版物经营许可证新出发京批字第直200384号人力资源服务许可证1101052014340号

Copyright © 2022 Bjx.com.cn All Rights Reserved. 北京火山动力网络技术有限公司 版权所有